化学气相沉积技术是近年来兴起的一种先进薄膜制备技术，采用 CVD 法制备的薄 膜结构致密、薄膜与基板的结合力强且薄膜沉积速率高，非常适合各类薄膜材料的工 业化生产。 本团队研制开发了具有自主知识产权的“智能喷液雾化-多元共析化学气相沉积 设备”及相应的“多类功能及结构薄膜制备技术”，适用于在一维（1D)、二维（2D) 及三维（3D)大尺寸、异形工件或基体上使用化学气相沉积法制备各种功能/结构薄膜 材料，能赋予工件更多的功能及更为优越的性能，扩大工件的应用范围，能为机械、 微电子、光学、汽车、模具、电学及航空航天等领域提供需要的多种新型膜材料，适 用范围广，安全性能高。其设备的先进性有： 1.搭载的“喷液雾化-多元共析液体原料供给系统”解决了以往 CVD 设备中固体 原料蒸发罐供给系统在工业应用中无法长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气难题。 能精准地控制多元化合物原料的各元素化学计量比，特别是能精准控制多元薄膜材料 的化学成分，并能长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气，彻底解决原料浪费现象， 是工业化应用必备的条件。 2.搭载的“智能真空度控制系统”，能精准控制本设备腔体内的压强，并能将腔 体真空度维持在 100-1000 Pa 之间的任意设定值，能保证工业生产时薄膜质量的精准 控制。3.搭载的“智能操控系统”能实现能用电脑精准控制薄膜沉积过程中的每个动作， 实现了全自动智能化操作，杜绝了人为操作出现的失误的情况，解决了样品可重复性 差这一难题。

化学气相沉积技术是近年来兴起的一种先进薄膜制备技术，采用 CVD 法制备的薄 膜结构致密、薄膜与基板的结合力强且薄膜沉积速率高，非常适合各类薄膜材料的工 业化生产。 本团队研制开发了具有自主知识产权的“智能喷液雾化-多元共析化学气相沉积 设备”及相应的“多类功能及结构薄膜制备技术”，适用于在一维（1D)、二维（2D) 及三维（3D)大尺寸、异形工件或基体上使用化学气相沉积法制备各种功能/结构薄膜 材料，能赋予工件更多的功能及更为优越的性能，扩大工件的应用范围，能为机械、 微电子、光学、汽车、模具、电学及航空航天等领域提供需要的多种新型膜材料，适 用范围广，安全性能高。其设备的先进性有： 1.搭载的“喷液雾化-多元共析液体原料供给系统”解决了以往 CVD 设备中固体 原料蒸发罐供给系统在工业应用中无法长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气难题。 能精准地控制多元化合物原料的各元素化学计量比，特别是能精准控制多元薄膜材料 的化学成分，并能长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气，彻底解决原料浪费现象， 是工业化应用必备的条件。 2.搭载的“智能真空度控制系统”，能精准控制本设备腔体内的压强，并能将腔 体真空度维持在 100-1000 Pa 之间的任意设定值，能保证工业生产时薄膜质量的精准 控制。3.搭载的“智能操控系统”能实现能用电脑精准控制薄膜沉积过程中的每个动作， 实现了全自动智能化操作，杜绝了人为操作出现的失误的情况，解决了样品可重复性 差这一难题。